일본의 캐논이 네덜란드 ASML의 극자외선(EUV) 리소그래피 기술에 도전할 수 있는 새로운 ‘나노임프린트 리소그래피(NIL)’ 시스템을 출시했다. 이번 출시로 EUV 리소그래피 장비 부문에서 독점적인 네덜란드 ASML과의 경쟁 구도 재편 가능성에 이목이 쏠린다. 더불어 중국이 일본 캐논의 리소그래피 장비를 수입, 미국의 반도체 수출 통제를 회피할 가능성도 제기된다.   

블룸버그는 13일(현지시간) 캐논이 5nm(나노) 칩을 생산하는 데 사용할 수 있는 NIL 기술을 발표했다고 보도했다. 캐논은 NIL 기술로 최대 2나노까지 생산이 가능하다고 밝혔다.

이에 따르면 캐논이 지난 2014년부터 투자한 나노임프린트는 차세대 반도체나 디스플레이 등에 나노급 회로를 새겨 넣기 위해 패턴이 새겨진 도장을 찍듯이 웨이퍼 위에 회로를 찍어내는 기술이다. 기존보다 공정이 단순해 낮은 비용으로 미세회로를 새길 수 있는 장점이 있다.

캐논은 새로운 시스템인 ‘FPA-1200NZ2C’가 5나노 공정에 맞는 반도체를 생산하는 것은 물론 2나노까지 축소할 수 있다고 밝혔다. 이는 3나노 반도체인 애플의 ‘아이폰 15 프로’ 및 ‘프로 맥스’에 탑재된 A17 프로 칩의 성능을 능가하는 것이다.

NIL 기술은 EUV처럼 최첨단 광학이나 거울을 사용하지 않기 때문에 기존의 반도체 무역 제한 조치를 우회, 중국에 기술을 출하할 수 있는 유리한 입지를 확보할 것이라는 전망도 나온다. 한편에서는 새로운 장비가 2나노에 해당하는 반도체 생산을 용이하게 할 수 있다는 캐논의 주장으로 인해 본격적인 조사를 받을 가능성이 높다는 지적이 나왔다.

캐논은 새로운 NIL 장비가 일본의 수출 제한 조치의 대상이 될 것인지에 대해서 언급을 거부했다. 

한때 전 세계 반도체 노광장비 시장을 주름잡던 캐논과 니콘은 반도체 공정 초미세화가 진행됨에 따라 10나노 이하 EUV 경쟁에서 네덜란드 ASML에 크게 뒤처져 있다. 이번에 공개된 캐논의 NIL 시스템은 ASML과 격차를 좁히는 데 도움이 될 수 있다는 분석이다.

안슐 굽타 가트너 수석분석가는 “5년 내로는 상업적인 영향을 기대하기 어려우며, 최첨단 프로세서 개발이나 생산 역량에는 큰 격차가 있다”라며 “하지만 미국은 조만간 이 기술의 중국 판매를 금지할 것으로 예상한다”라고 말했다.

박찬 기자 cpark@aitimes.com