극자외선 리소그래피

캐논, 새로운 리소그래피 시스템 출시…ASML 아성에 도전

일본의 캐논이 네덜란드 ASML의 극자외선(EUV) 리소그래피 기술에 도전할 수 있는 새로운 ‘나노임프린트 리소그래피(NIL)' 시스템을 출시했다. 이번 출시로 EUV 리소그래피 장비 부문에서 독점적인 네덜란드 ASML과의 경쟁 구도 재편 가능성에 이목이 쏠린다. 더불어 중국이 일본 캐논의...

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